WaferVision HSM-200

WaferVision HSM-200

zur hochpräzisen Wafervermessung

Reinraumtaugliche High-Speed-Messanlage zur Dicken- und Oberflächenbestimmung von Wafern in der Halbleiterindustrie. Das System ermöglicht homogene Wafer-Chargen für nachfolgende Polierprozesse bei extrem hohem Durchsatz.

130

Wafer Pro Stunde

50 NM

Wiederholgenauigkeit Dicke

4“ bis 8“

WaferGrösse

ISo 5

reinraumtauglich

Ursprüngliche Fragestellung:

Wafer präzise klassifizieren – bei maximalem Durchsatz

Für einen optimalen und gleichmäßigen Polierlauf (Polierrun) in der Halbleiterfertigung ist eine möglichst homogene Dickenverteilung der eingesetzten Wafer zwingend erforderlich. Der Kunde stand vor der Herausforderung, Wafer vor dem Polieren präzise und in hoher Stückzahl zu klassifizieren, um eine ungleichmäßige Bearbeitung und damit kostspieligen Ausschuss zu vermeiden.

Gleichzeitig verlangte der moderne Fertigungsprozess eine nahtlose Software-Anbindung an das Host-System sowie die strikte Einhaltung strenger Reinraumklassen, ohne dabei Kompromisse bei der Messgeschwindigkeit einzugehen.

Die Anforderung: Eine vollautomatisierte, reinraumtaugliche Messanlage, die sowohl die Waferdicke als auch die Oberflächentopographie im Submikrometerbereich erfasst, mit bestehenden Produktionsleitsystemen kommuniziert und einen extrem hohen Durchsatz garantiert.

Die Lösung

Submikrometer-Präzision im High-Speed-Takt

Mit der WaferVision HSM-200 wurde eine hochinnovative Messanlage realisiert, die bis zu 130 Wafer pro Stunde mit einer Dicken-Wiederholgenauigkeit von 50 nm vermisst. Das System ist nach ISO 5 reinraumtauglich und dank SECS/GEM-Schnittstelle vollends für die vernetzte Fertigung vorbereitet.

Prüfverfahren

Vermessung von Waferdicken und Oberflächen (Topographie)

Messgenauigkeit Topographie

Druckluft (Vorprüfung) · Helium (Feinlecksuche)

Durchsatz

130 Wafer pro Stunde

Unterstützte Bauteiltypen

Wafergrößen von 4“ bis 8“

Messgenauigkeit Dicke

 0,1 Mikrometer Genauigkeit

Integration & Software

SECS/GEM ready für die automatisierte Fabrikkommunikation

Wiederholgenauigkeit Dicke

50 NM

Reinraumklasse

Reinraumtauglich nach ISO 3

Eingesetzte Prüfverfahren

Diese Verfahren wurden für diese Anlage kombiniert und sind je nach Anforderung auch einzeln einsetzbar.

aprotec_erfolg_WaferVision HSM-200-5

Prüfung von Wafern

zur Erfassung geometrischer Eigenschaften und Sicherstellung der Qualität entlang des gesamten Fertigungsprozesses.

Typische Anwendungen:

  • Qualifizierung von Wafern
  • Prozessüberwachung während der Halbleiterfertigung
  • Endkontrolle
  • bei Silizium-, Verbindungshalbleiter- und weiteren flachen Substraten
  • zur Messung von Parametern wie Dicke, Warp, Bow und TTV

Anlagenbilder

Einblicke in die Anlage

Weitere Anlagen

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Ansprechpartner

Michael Landgraf

Geschäftsführer